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適用于低功耗信號鏈應(yīng)用的功率優(yōu)化技術(shù)
本文介紹用于在低功耗信號鏈應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)優(yōu)化能效比的精密低功耗信號鏈解決方案和技術(shù)。本文將介紹功耗調(diào)節(jié)、功率循環(huán)和占空比等用于進(jìn)一步降低系統(tǒng)功耗的技術(shù)(不僅限于選擇低功耗產(chǎn)品,這有時并不夠)。還將探討如何使用通道時序控制器、FIFO和電壓監(jiān)控模塊等片內(nèi)特性來簡化系統(tǒng)設(shè)計(jì),并在主機(jī)控制...
2023-02-09
信號鏈 應(yīng)用 功率優(yōu)化
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采用創(chuàng)新數(shù)字預(yù)失真技術(shù)進(jìn)行ADC和音頻測試的高性能信號源
要測試精密儀器儀表,需要使用超低失真、低噪聲、高性能的信號發(fā)生器。新的產(chǎn)品通常需要保證性能指標(biāo)在較高的水平。有些參考設(shè)計(jì)(例如ADMX1002)利用高性能精密數(shù)模轉(zhuǎn)換器(DAC)簡化了這一任務(wù),這些轉(zhuǎn)換器具有出色的精度和分辨率水平。1此外,加入一種創(chuàng)新數(shù)字預(yù)失真算法可以進(jìn)一步增強(qiáng)測試信號的...
2023-01-27
數(shù)字預(yù)失真 ADC 音頻測試
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精細(xì)之至,方顯英雄本色——保證源表測量精度的小秘籍
精準(zhǔn)的測試,幾乎是所有工程師測試工作永恒的追求目標(biāo)。但這絕非易事,特別是小信號的測量。例如,半導(dǎo)體器件、材料、醫(yī)療、MEMS、發(fā)光器件等,需要測量精確伏安(I-V)特性曲線、絕緣特性、電容漏電流、暗電流等小信號,源表往往是首選。
2023-01-20
源表測量 KEYSIGHT
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誤差矢量幅度(EVM)測量怎樣提高系統(tǒng)級性能
誤差矢量幅度(EVM)是廣為使用的系統(tǒng)級性能指標(biāo),許多通信標(biāo)準(zhǔn)將其定義為用于無線局域網(wǎng)(WLAN 802.11)、移動通信(4G LTE、5G)等應(yīng)用的合規(guī)性測試。除此之外,它還是一個極為有用的系統(tǒng)級指標(biāo),可通過簡單易懂的值來量化系統(tǒng)中所有潛在損害的綜合影響。
2023-01-20
EVM ADI
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網(wǎng)絡(luò)分析儀在材料測試中的應(yīng)用
自然界中大多數(shù)物質(zhì)在微波波段都呈現(xiàn)為有損耗的絕緣體,稱之為電介質(zhì),簡稱介質(zhì)。介質(zhì)在電場的作用下都會發(fā)生極化現(xiàn)象,即介質(zhì)在外加電場的作用下其內(nèi)部的正負(fù)電荷向著相反方向發(fā)生微小位移,從而產(chǎn)生許多電偶極矩。介質(zhì)極化后在介質(zhì)內(nèi)部產(chǎn)生一個極化電場,這個電場的方向與外加電磁場的方向相反,...
2023-01-12
網(wǎng)絡(luò)分析儀 材料測試
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模擬人體離子傳輸機(jī)制 仿生皮膚可進(jìn)行自我愈合
一段軟質(zhì)材料被刀割破,室溫條件下放置一小時后,經(jīng)測試,其力學(xué)性能可恢復(fù)至原始狀態(tài)的91%……近日,中國科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所生物基高分子材料團(tuán)隊(duì)與韓國漢陽大學(xué)以及韓國忠南大學(xué)的科研團(tuán)隊(duì)共同合作,開發(fā)出一種“超靈敏且可自我修復(fù)的離子皮膚”。相關(guān)論文在線發(fā)表于《自然·通訊》。
2023-01-09
人體離子傳輸機(jī)制 仿生皮膚
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基于深度學(xué)習(xí)的地震波逆時偏移補(bǔ)償方法
逆時偏移作為重要的地震偏移技術(shù),已經(jīng)成為復(fù)雜構(gòu)造成像的有力工具。地下構(gòu)造的強(qiáng)衰減體引起地震波 振幅減弱和相位失真,直接影響地下有效油氣儲層的識別精度,而現(xiàn)有逆時偏移補(bǔ)償技術(shù)具有計(jì)算復(fù)雜、補(bǔ)償精度低等不足。
2022-12-29
地震波 逆時偏移補(bǔ)償
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如何設(shè)計(jì)更優(yōu)質(zhì)的脈搏血氧儀?
許多身體病狀可能造成低血氧,其中包括哮喘、心臟疾病、慢性阻塞性肺病(COPD)、肺部疾病、肺炎重癥等,因此可能需要在住家或醫(yī)院進(jìn)行持續(xù)或間歇性監(jiān)視?;加械脱醯娜丝赡艹霈F(xiàn)頭昏、感知混淆、呼吸費(fèi)力或急促、以及頭痛等癥狀。
2022-12-28
脈搏血氧儀
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巔峰對決:三大頂流半導(dǎo)體廠商高端工藝逐鹿,你更看好誰?
集成電路的成功和普及在很大程度上取決于IC制造商是否有能力繼續(xù)以相對低的功耗提供更高的性能。隨著主流CMOS工藝達(dá)到理論、實(shí)踐和經(jīng)濟(jì)極限,降低IC成本不可避免地與不斷增長的技術(shù)和晶圓廠制造規(guī)程緊密相連。
2022-12-21
CMOS工藝 英特爾 臺積電
- 協(xié)同創(chuàng)新,助汽車行業(yè)邁向電氣化、自動化和互聯(lián)化的未來
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